• 专利附录
  • 专利说明
  • 权利要求
  • 类似技术
  • 同族专利
  • 引用文献
  • 法律状态
  • 优先权
    • 专利摘要:

    公开号:WO1984003439A1
    申请号:PCT/JP1984/000071
    申请日:1984-02-28
    公开日:1984-09-13
    发明作者:Shozo Shinpo；Tetsuo Fushino；Akihiro Hachijo；Shozo Ohtsu
    申请人:Taki Chemical；
    IPC主号:A61Q11-00
    专利说明:
    [0001] 明 細 書 歯磨用 シ リ 力基剤及びその製法 技 術 分 野
    [0002] 本発明は歯磨用 シ リ 力基剤に関する。 殊に、 従来にない優れ た透明性と その経時安定性に富み、 且つ所望する研磨力を有す る透明歯磨用 シ リ 力基剤に関する。
    [0003] 背 景 技 術
    [0004] 透明歯磨はその透明度から く る清涼感から歯をきれいにする と い う イ メ ー ジを高め、 近年、 種々 の製品が開発され、 市販さ れている力；、 この透明歯磨に用いられる シ リ 力基剤は、 透明感 を附与するため歯磨基剤と して本来の 目的を逸脱した斫磨力の ほと んどないものを使用 した り 、 一方透明歯磨の透明性は、 歯 磨の透明練成分と シ リ 力基剤とを練 り合せた時、 両方の屈折率 が近似している こ とが必要である力；、 後者の物性のバ ラ ッ キゃ その安定性が悪い為に、 製品の透明性が悪かっ た り 、 経時的に 変化 し、 商品と して安定した透明歯磨を得る こ とができないの が現状である。
    [0005] と こ ろで、 透明歯磨用 シ リ 力基剤と して適切な研磨力を有す る シ リ カ基剤の製法はかな り 多 く 提案されている。 例えば、 特 公昭 4 9一 1 1 1 5 9号公報記載の方法は、 歯磨基剤と して研磨性 のない不適切な市販の非晶質超微粒子ケ ィ 酸を水あるいは稀薄 なア ル 力 リ 金属無機塩水溶液の湿潤状態で 5 0 0〜 1 D 0 0て に焼 成し、 粉砕する方法に関する ものである。 この方法によれば、 確かに歯磨用基剤と してその研磨性を附与できる力；、 研磨力が 応々にして高きに過ぎ、 歯を傷つけやすく 、 透明性に優れた基 剤は得難く 、 得られた基剤の安定性も変化し易いも のであ り 、 且つ製造上、 工業的に安価に製造する こ とは困難である。
    [0006] 更にまた、 特開昭 5 1 - 1 2 8 6 9 号及び特開昭 5 1 -〗 3 0 8 4 1 号公報記載の筅明の シ リ 力 も研磨性附与を目的とするものであ る力;、 歯磨の透明練成分との練り 安定性も充分とは言難い。 特 公昭 4 8 - 1 4 9 S 5 号公報記載の発明は、 屈折率 1.4 0〜 1.4 7、 吸 液量 1.5 CC 下、 粒子径約 0. D 1〜0, 5 ミ ク 口 ンの 物性を有する シ リ 力 を含有した透明歯耮を開示する ものである力；、 こ こ に開 示された方法によ り 製造した シ リ 力 の後述する： B E T法によ る 比表面積は 1 5 0 C T A B法による比表面積は 8 2 9/ni で あ り 、 これを湿潤剤と混練して保存した場合、 稀度が保存曰 と と もに大き く 増大し、 線り 安定性が次第に悪化する。
    [0007] 尚、 本発明者らの一人は、 特公昭 4 9 - 8 6 4 0号公報及び特公 昭 5 2 - 1 5 0 7 8 号公報に於て、 弗素イ オ ンを介在させるこ とに よ り 、 シ リ カ の屈折率を調整する方法を提案したが、 透明歯磨 用基 iftと し透明性に若干問題があ り 、 経時安定性も谩れたもの ではな Ώ、つす：。
    [0008] このよ う に従来の公知の シ リ 力は、 歯磨基剤と して具有すベ き条件である研磨性、 経時安定性、 透明歯磨基剤と しての ¾明 感、 換云すれば濁度のいずれかに於て欠点を有し、 満足すべき も のは存在しなかっ た。
    [0009] 本発明者らは、 上記欠点を有する シ リ 力基剤についてその研 磨性、 透明性と経時安定性に関して長年にわた り綿密な計画の も と に鋭意研究を重ねた結果、 驚く べきこ と に歯磨練成分に ½ 下に詳述する本発明の シ リ 力基剤を舍有させた場合、 適度の研 磨力と水と 同程度の透明性を有し、 且つ経時安定性に優れた透 明歯磨を得る こ とができ る こ と をつき と めた。
    [0010] 本発明において透明性とは.、 後述の如 く 屈折率の異なる二種 の溶液、 例えばグ リ セ リ ン と水と を種々適当な割合で混合し、 種々の屈折率を有する分散媒を調整し、 各分散媒の一定量中に
    [0011] —定量の シ リ カ基剤を混合分散させ、 必要に応じて脱気し、 各 々 の屈折率と濁度を測定し、 こ の両方をパ ラ メ - タ - とする曲 線を描き、 その曲線の最小濁度をも っ て表わすが、 この透明性 に関与する要因について本発明者らはあらゆる角度から細部に わた っ て鋭意研究を行な っ た結果、 シ リ 力基剤自体が有する細 孔が大き く 関与する こ と をつき と め、 本発明を完成したも ので あ 。
    [0012] 発 明 の 開 示
    [0013] 即ち、 本発明は B E T 法によ る比表面積力； 5 〜 6 0 rri/9 ( 無 水物 ） であ っ て、 且つ C T A B 法によ る比表面積力； 5 〜 60 W/ ( 無水物 ） を有し、 B E T 法と C T A B 法の比表面 Wの差力; 40 rrt/9 ( 無水物 ） 以下であ り 、 屈折率力； 1.4 2〜1·4 5である歯磨用 シ リ 力基剤に関する。
    [0014] そこで先ず、 本発明を更に詳細に説明するに当 り 、 本発明に 用いる用語、 Β 'Ε Τ 法に よ る比表面積、 C T A B法によ る比表 面積、 屈折率及び研磨減量について説明する。
    [0015] 1 ) B E T法によ る比表面積測定法
    [0016] 液体窒素を冷却剤に用い、 - 1 9 6て における窒素ガ ス吸着 量から分子断面積を 1 0.2 A と して B E T 法によ り無水物 グ ラ ム当 り の表面積を算出する。
    [0017] 試料の脱ガスは真空度 I X 1 0 mn 1 4 0。Cで 6 0分間行 な う 。
    [0018] ) C T A B 法による比表面積測定法
    [0019] 試料表面に臭化セ チ /レ メ チルア ン モ ニ ゥ ム （ C T A B ) を 水溶液中で飽和吸着させ、 その吸着量から分子断面積を A と して無水物グ ラ ム当 り の表面積を算出する。
    [0020] 水分既知の試料 1 51 を 5 0 0^容共拴付三角フ ラ ス コに秤取 し、 D.5 5 %の C T A B 溶液 1 0 0 7¾2を加え、 0 NaOH 溶液 で: ρΗ 9.0 に調整した後、 マ グネ テ ッ ク ス タ ー ラ ーで 2時間挽 拌する。
    [0021] その懸濁液を遠心沈降させ、 上澄液 〗 を 滴定用と して 5 0 0 m容三角フ ラ ス コ に取り 、 イ オ ン交換水 5 0 mi 、 ク ロ 口 ホ ル ム 2 5 m£、 プロ モ フ ヱ ノ - ノレ ブル - 指示薬を加え、 予め C T A B標準溶液で標定されたス ル フ ォ コ ハ ク酸ジ ォ ク チ ルナ ト リ ゥ ム溶液 （ ェ - ロ ゾ /レ 0 T ) で滴定を行な う 。
    [0022] ク ロ ロ ホ ル ム麿が無色にな り 、 水層が嘗かに藤色がかつ た 時点を終点と してヱ - 口 ゾル 0 T溶液の滴定量 V, OT を求める c 次いで吸着操作前の C T A B溶液の 〗 0 j lf を同様の操作で 滴定を行ない、 ェ - 口 ゾノレ 0 T溶液の滴定量 ^ j ^を求める。
    [0023] 無水物グ ラ ム当 り の表面稹 （ S 9 ) を次式によ り算出す る
    [0024] 5.7 8 X ( Vx - V ) X a
    [0025] S =
    [0026] X 但し、 X ： 試料の無水物渙算量 （ ） a ： ェ -ロゾ A溶液 1 m に相当する C T A B量（w) s ) 屈 折 率
    [0027] グ リ セ リ ン と水を適当量混合し、 種々 の屈折率をもつ分散 媒を調整し、 各分散媒 5 5 中に試料 1 5 9 を分散させ、 真 空攪拌 i 潰機を用いて 1 0 分間 脱泡混合させる。
    [0028] こ の混合物の 2 5 における屈折率と 凝度を測定し、 屈折 率 - 濁度曲線をえがき、 衝度が最少と なる時の混合物の屈折 率を試料の屈折率とする。
    [0029] 屈折率測定には、 ア ッ ベの屈折計を用い、 濁度測定には、 積分球式^度計を用い、 試料厚み 1 観の と きの透過度から 度を求める。
    [0030] ) 硏 磨 减 量
    [0031] 水平住復ブ ラ ッ シ ング式研磨^を使用 し、 微粉末シ リ 力 25 %を含む 6 0 % グ リ セ リ ン水溶液を表面平滑な しんち ゆ う 板 上に載せ、 荷重 5 0 0 $^ をカゝけて 1 8 0 0 0回研磨した後、 しん ち ゆ う 板の減量を測定し、 これを研磨減量とする。
    [0032] 尚、 本発明に於て無水物とは乾燥紛砕後の微粉末 シ リ 力 を 1 0 5てでほぼ怛量になる まで大略 2 時間以上乾 ' した シ リ 力 を言 う 。
    [0033] 本発明の歯磨用 シ リ 力基剤の製法について詳細に説明する。 本発明に用レ、られる ア ル 力 リ 金属ゲ イ 酸塩と しては、 ナ ト 'J ゥ ム 、 力 リ ゥ ム及び リ チ ウ ム の ケ ィ 酸塩を挙げる こ と力；で き る力；、 比駁的安価な点からケ ィ 酸ナ ト リ ゥ ムが一般的であ る。 そのモ ル比、 艮 [3ち Si ° x20 t 但し、 Xはア カ リ 金属を 示す ） は、 2 ~ 4 の範囲のァ ノレ力 リ 金属ゲ イ 酸塩を用いる こ とができる。 また本発明においてア ル 力 リ 金属ゲ イ酸氇の酸 性化剤と して塩酸または硫酸を用いるが、 これらの酸を添加 する際のア ル力 リ 金属ゲイ 酸塩溶液の S i Oz 濃度に 関しては、 5 〜 1 5 重量 ％程度また酸濃度も 5 〜 1 5 重量％程度が製造 上好ま し く 、 原料濃度は他の条件を適宜選択する こ とによ り この範囲内で目的とする本発明の シ リ カ基剤の物性を附与す る こ とができる。
    [0034] 次いで、 本発明に使用する電解質物質と しては、 ァノレ カ リ 金属の鉱酸塩が好ま し く 、 例えばナ ト リ ゥ ム 、 力 " ゥ ム等の 鉱酸塩であ り 、 氇化ナ ト リ ウ ム 、 塩化カ リ ウ ム 、 硫酸ナ ト リ ゥ ム 、 硫酸力 ひ ゥ ム 、 炭酸ナ ト リ ウ ム 、 炭酸カ リ ウ ム 、 硝酸 ナ ト リ ゥ ム 、 硝 ¾力 リ ゥ ム等を例示する こ とができる。 又、 その使用量に関しては、 シ リ 力基剤の研磨性との関係から S i 02 に対して 1 0 〜 6 0 重量％の 範囲内で適宜用いられる。
    [0035] と ころで本発明は、 先ず ¾解質物質の存在下でア ル力 リ 金 属ケ ィ酸塩溶液と塩酸または硫酸とを反応させる ものである が、 その実施 II様と して電解質^質を予めア ル力 リ 金属ゲイ 酸塩溶液に舍有させる こ とが、 シ リ 力基剤の研磨性を附与す る こ とから好ま しいが、 電解質量、 反応温度、 反応時間等を 適宜選択する こ とによ り 、 塩酸又は硫酸に電解笪を添加し、 反応させる こ とをさまたげる ものではない。 電解質物質を予 めア ル力 リ 金属ゲイ 酸塩溶液に含有させる通常の , 様と して は、 先す各崔の渙度と組成比を有するア ル カ リ 金属ケィ酸塩 溶液と電解質物質溶液と を同時にも し くは別個に適当な反応 槽に仕込んでも よいし、 予め電解貧を混合溶解せしめたァノレ 力 ' I 金属ゲ イ 酸塩溶液を反応 に導入しても よい。 尚、 導入 に際し所望する シ リ 力基剤の研磨性との兼ね合いから、 充分 なる攪拌下のも と で電解質量、 シ リ カ折出工程での酸の添加 速度等との有機的な関連のも とで反応温度は、 6 0〜 1 0 crcで 行 う のが好ま しい。
    [0036] さて、 本発明の シ リ 力基剤の製法の骨子は、 反応系 を
    [0037] 1 0. 0 と する までの シ " 力折出工程と反応終了時； H を 8. 0〜 6. 5 と する中和工程の二工程からな り 、 且つ中和工程と シ 1】 力折出工程の塩素ィ ォ ンまたは硫酸ィ ォ ンの添加速度比が少 な く と も 5 ： 5 であ り 、 且つ中和工程を 5 D 分以内で行い、 少な く と も 1 0 分以上熟成する こ と にある。
    [0038] 本発明でい う シ リ 力折出工程とは、 ア ル力 リ 金属ケ ィ 酸塩 溶液中の シ リ 力 （ S i 02 ) を 9 5 %以上 折出させる工程をいい、 通常この シ リ 力折出工程は塩酸または硫酸の添加時間を 4 0 分〜 4 時間の範囲内で行な う のが好ま し く 、 電解質量、 反応 温度等 との条件から上記範 l¾内で適宜反応させる こ とができ、 通常工業的には 1 〜 2 時間で行 う のが生産上よ り 望ま しい。
    [0039] と ころで、 本発明の中和ェ裎は、 シ '） 力 の大部分が折出し 終っ た反応系 ！) H 1 0. 0 力 ら pH & 0 ~ ό. 5 になる までの塩酸ま たは硫酸を添加する工程である。 研磨性のそれ程 く ない歯 磨用 シ リ 力基剤を製造する場合、 大きな間 ^とはならない力；、 かな り 髙ぃ^磨性を^与したい場合、 中和ェ ¾： ^間かけ た り 、 また熟成時間が短かすぎる と その埋由は定か ない力 S 透明性に優れ、 経時変化の少ない シ リ 力基剤が得難く なる。
    [0040] そこで本発 者らは、 このよ う な欠点のない低斫磨性から 高研磨性の多様な透明鹵磨用 シ リ 力基剤を得る方法につき更 に検討を加えた結果、 上述の如き中和工程を 5 0 分以内で行 ない、 且つ中和工程と シ リ 力折出工程の塩素イ オ ンまたは硫 酸イ オ ン の添加速度比が少な く と も 5 ： 5 で行ない、 少な く と も 1 0 分以上熟成する こ とが必要である こ と を見い出した。 即ち、 中和工程を短時間で行なわしめ、 少な く と も 1 0 分 ¾上熟成する こ とによ り 、 前述の シ リ 力基剤自体の物性は著 しく 改善され、 品質は安定化し、 加えて生産性の向上を図る こ とができる。
    [0041] と ころで . 中和工程で反応系 を 8. 0〜 <5. 5 に するこ とに よ り 、 透明歯磨用 シ リ 力基剤の屈折率 （ グ リ セ リ ン ー水系で 測定した値を示す ） を 1. 4 2〜 1. 4 5に均一化させるこ とができ る。 反応系 力； 6. 5 を 下廻る と 屈折率のノく ラ ツ キ よ り 、 透明歯磨用 シ リ 力基剤を得る こ とができない。
    [0042] また、 反応終了時の反応系： ρΗが 8. Q を 上廻る と 濁度が高 く な り 、 しかも シ リ カ基剤自体の ΡΗ 7); 高く な り すぎて、 歯 磨用基剤と して好ま し く ない。 その後は、 通常の方法によ り 萨過、 水洗を行ない、 得られたシ リ カ基剤を液から分離し、 乾燥、 粉砕して製品とする。
    [0043] このよ う に して得られたシ リ 力基剤は、 Β Ε Τ法による比 表面積が 5 〜 6 0 ni/ ^ ( 無水 ¾ ) 且つ C T A B法によ る比表 面 ¾力； 5 〜 6 0 ηί/9 ( 無水物 ） を有し、 且つ； B E T法と C T A B法の比表面積の差が 4 0 rri/9 ( 無水物 ） 以下を示す屈折 率 1. 4 2〜1· 4 5 を有するものであり、 透明性に優れ、 且つ経時 安定性の良好な基剤であ り 、 研磨減量が 2 〜 9 0 W の 範囲内 にある任意の研磨性をもつ殊に、 透明歯磨用 シ リ 力基剤と し て有用な シ リ 力を得る こ とができる。 以上、 本発明の透明の透明歯磨用 シ リ 力基剤の一製法につ いて記載した力；、 別の製法にて B E T法によ る比表面積が 5 〜 ό 0 rrl/9 ( 無水物 ） 、 且つ、 C T A B法に よ る比表面績カ； 5〜 6 0 ni/9 ( 無水物 ） を有し、 且つ、 ； B E T法と C T A B 法の比表面積の差が 4 0 ηί/9 ( 無水物 ） 以下を示す シ リ 力基 剤が得られる と しても、 その基剤が透明性並びに経時安定性 に優れたも のである こ と 明白である。
    [0044] 更にまた本発明の シ リ 力 を製造するに際しては、 研磨性を 調整するために、 あるいは屈折率調整剤と してア ル 力 リ 金属 ゲイ酸塩溶液あるいは塩酸または硫酸等にあるいは反応過程 時に硫酸ア ル ミ ニ ウ ム 、 塩化ア ル ミ ニ ウ ム 、 塩化カ ル シ ウ ム、 塩化マ グ ネ シ ウ ムあるいはこれらの塩基性塩、 弗化ナ ト リ ゥ ム 、 弗化カ リ ウ ム 、 弗化ア ン モ ニ ゥ ム等を添加し使用し う る こ とは勿論である。
    [0045] そこで本発明の歯磨用 シ リ 力基剤の特微を明瞭にするため、 参考例との関係に於て示せば次の如 く である。
    [0046] 参考例 1.
    [0047] 1 5 0 MI の タ - ビ ン翼を有する攪拌機を設けた 2 0 ^容 の邪魔板付き反応容器に Si02 1 1 0 を含有するケ ィ 酸ナ ト リ ゥ ム （ Na20. 5.2 Si02 ) 水溶液 1 0 を入れ反応温度を 7 5 に保持し、 1 1 %硫酸を 5 7 9/^ の流速で 6 5 分間添加し、 反応系 pH を 1 0.0 と した。 次いで 1 1 %硫酸を 9 6 ？ mの流 速で添加し、 1 2 分後に反応系 ； pH力； 7.8 と な っ たと き 酸 の 添加を止め、 そのま ま 20 分間 熟成した。
    [0048] 過、 水洗を繰 り 返し 〗 1 0 °cに保っ た乾燥機中で乾燥後、 微粉砕した。
    [0049] こ う して得られた微粉末シ リ 力は、 B E T法比表面積 1 71 rrt/ 、 C T A B法比表面積 1 46 rri/9、 ； B E T法と C T A B法 の比表面積の差が 25 rti/9 を示す。
    [0050] この シ リ 力基剤は、 透明性に優れている力；、 研磨性に乏し く 、 透明 ®磨用の増粘剤と して使用出来ても研磨剤と しては 个適でめ る。
    [0051] 参考例 2.
    [0052] 参考例 1 で使用 した反応容器に Si02 9 0 ？/^、 aC^ 1 1 を舍有するケィ 駿ナ ト リ ウ ム （ Na20 · 5· 1 SiO, ) 水溶液 1 0 を入れ、 反応温度 6 5 °C に保持 し 9 % ¾酸を 176 9/m の流速で 2 1 分間添加し、 反応系 pHを 1 0.0 と した。 次いで ？ %硫酸を 5 2 9/mの 流速で添加し、 4 6 分後に反応系 が 5.8 に な っ たと き酸の添加を止め、 そのまま 1 5 分間熟成し た。
    [0053] ^過、 水洗を猱り 返し、 1 1 0てに保っ た乾燥機中で乾.燥後 微粉砕した。
    [0054] こ う して得られた微粉末シ リ 力は B E T法比表面積 2 1 5 ni/9、 C T A B法比表面積 ？ 8 ηΐ/9、 ； B E T法と C T A B法 の比表面積の差力； 〗 1 7 rri/ を示す。
    [0055] この シ リ カ基剤は、 研磨性が低く ¾度も比較的高く 、 且つ、 経時変化が大きいこ とから透明歯磨用と して不適切である。 参考例 5.
    [0056] 参考例 1 で使用した反応容器に SO: 1 0 09/^、 NaC 25？ を含有するケィ 酸ナ ト リ ゥ ム （ Na:0 ' 2.7 Si02 ) 7j 溶液 10 を入れ、 反応温度 8 0 て に保持し、 1 0 %硫酸を 4 6 9/m% の
    [0057] 流速で 9 5 分間 添加し、 反応系 pH を 1 0.0 と した。
    [0058] 次いで 1 0 % 硫酸を 9 2 9/wi の流速で添加し、 1 7 分後に
    [0059] 反応系 ： PHが 6.2 にな っ たと き、 酸の添加を止めただちに ^過
    [0060] を行な っ た。
    [0061] 水洗、 過を繰 り 返し、 1 1 CTCに保っ た乾燥機中で乾燥後、 微粉砕した。
    [0062] こ う して得られた微粉末 シ リ 力は、 B E T 法比表面積 8 S
    [0063] rri/9、 C T A B法比表面積 1 8 ni/9、 B E T法と C T A B法
    [0064] の比表面積の差力； 6 5 rri/9 を示す。
    [0065] この シ リ 力基剤は、 研磨剤と して適切な研磨性を有してい
    [0066] る力；、 衝度が高く 経時変化も大であ り 、 透明歯磨用基剤と し
    [0067] て不適である。
    [0068] 参考例 4
    [0069] 参考例 〗 で使用した反応容器に Si02 9 5 Z 、 NaC δ 5
    [0070] 9/^を含有するケ ィ酸ナ ト リ ゥ ム （ Na20 · 5.1 Si 02 )水溶液 10
    [0071] を入れ、 反応温度 9 5 に保持し、 1 0 %硫酸を 5 6 9/m
    [0072] の流速で添加し、 8 9 分後に反応系； H力； 5.2にな つ たと き酸
    [0073] の添加を止め、 そのま ま 1 5 分間熟成した。
    [0074] t戸過 、 水洗を繰 り 返し 1 1 0てに保っ た乾燥機中で乾燥後、
    [0075] 微粉砕した。
    [0076] こ う して得られた微粉末 シ リ 力は、 B E T法比表面積 208
    [0077] ni/9、 C T A B 法比表面積 2 〗 nl/ 9、 B E T法と C T A B法
    [0078] の比表面積の差が 1 8 7 rri/9 を示す。
    [0079] この シ リ 力基剤は高い研磨性を有するが濁度が高く 、 透明
    [0080] O PI
    [0081] VIPO AJ 歯磨用基剤と して不適切である。
    [0082] 参考例 5.
    [0083] 参考例 1 で使用した反応容器に SiO, 1 0 0 、 NaC 1 7.5· 9 ί9 を含有するケィ 酸ナ ト リ ゥ ム （ Na, 0 · 5· 1 S i 02 ) 7 溶液 10 を入れ、 反応温度 8 5 °Cに保持し、 1 0 %硫酸を 3 6 ノ ¾ の 流速で 1 02 分間 添加し、 反応系； PH 1 0.0 と した。
    [0084] 次いで 1 0 %硫酸を 2 69/mn の流速で添加し、 5 2 分後に反 応系： PH力； 6.5 に な っ たと き 酸の添加を止め、 そのまま S O 分間熟成した。
    [0085] 戸過、 水洗を り 返し、 1 1 0てに保った乾燥機中で乾燥後、 微粉砕した。
    [0086] こ う して得られた微粉末シ リ カは、 B E T法比表面積 5 9 rri/9、 C T A B法比表面 ¾ 1 6 ni/ 、 B E T法と C T A B法 の比表面積の差が 4 5 ni/9 を示す。
    [0087] こ の シ リ カ基剤は、 歯磨用研磨剤と して適切な研磨性を有 し、 7 練直後の透明性も比較的良好である力；、 経時変化が大 き く 保存中に透明性を喪失する欠点がある。
    [0088] 参考例 6.
    [0089] ァ メ リ 力合衆国の某会社が製造し、 市阪している透明歯磨 用 シ リ カ を入手し、 その物性を測定した結果、 B E T法比表 面積 8 7 »^ 、 C T A B法比表面積 42 ？ 、 B E T法と C T A B法の比表面積の差は 4 5 ni/ 9 を示す。
    [0090] この製品は、 歯磨用硏磨剤と しては適切な研磨性を有し、 混練直後の衝度も比較的低いが、 経時変化が大き く 、 透明歯 磨用の基剤と して十分満足出来る も のではない。 本髡明例
    [0091] 参考例 1 で使用した反応容器に Si02 1 1 09/ 、 aC^15$ を含有するゲ イ酸ナ ト リ ゥ ム （ Na20 · 3.1 S i 0' )水溶液 1 0 を入れ、 反応温度 90てに保持し、 1 0 %硫酸を 549/mn の 流速で 76 分間添加し、 反応系 pHを 10.0 と した。
    [0092] 次いで 1 0 %硫酸を 979 n の 流速で添加し、 1 4 分後に 反応系 pH力； 7.2 に な っ たと き 酸の添加を止め、 そのま 20 分間熟成した。
    [0093] 护過、 水洗を繰 り 返 し、 1 1 0 に保っ た乾燥機中で乾燥後、 微粉砕した。
    [0094] こ う し て得られた微粉末シ リ 力は、 B E T 法比表面積 56 rrl/9、 C T A B 法比表面積 22 rri / 9、 B E T法と C T A B法 の比表面積の差が 1 4 rri/9を示す。
    [0095] こ の シ リ 力基剤は、 適切な研磨性を有し、 透明性に優れ、 且つ経時変化が少な く 、 透明歯磨用の基剤と して優れた特性 を有する。
    [0096] 以上の諸物性及びその他の物性をま とめて示せは、 次の通 り である。
    [0097] ■、·■.、.： ··*· u 第 1 表
    [0098]
    [0099] 注） 屈折率は混練直後の屈折率を示し、 5 日後の濁度は混練直後 の屈折率に於ける; :度を示す。 以上、 参考例 1 〜 6 及び本発明例を掲げて説明したこ とか ら も明確なよ う に、 B E T法によ る比表面積、 G T A B法に よ る比表面積及び B E T 法と C T A B法の比表面積の差の三 条件が透明歯磨用 シ リ カ基剤の物性、 即ち、 その透明性、 研 磨性及び歯磨にした場合の《 時安定性に重要な因子である こ と を示したも のであ り 、 上記三条件の う ち、 どの因子が欠落 しても歯磨用 シ リ 力基剤、 殊に透明歯磨用 シ リ カ基剤と して 望ま し く ない。 本発明のシ リ 力基剤を透明練齒磨に用いる場合、 透明練成 分と混練せしめられるが、 透明線成分と しては、 練歯磨と し ての適度の流動性を附与するために湿滴剤や粘結剤が用いら
    [0100] OMPI れる。
    [0101] 湿潤剤と してはグ リ セ リ ン 、 ソ ル ビ ト - /レ、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ - ノレ 、 デキ ス ト リ ン 、 フ。ロ ピレ ング リ コ - ル、 7 fa等 を例示でき、 又、 粘結剤と しては、 カ ルボ キ シ メ チ ルセ ル口 - ス 、 ア ル ギ ン酸ナ ト リ ゥ ム 等を挙げる こ とができる。
    [0102] これら湿潤剤や粘結剤の配合割合や、 他の成分と して洗浄 剤、 香料、 甘味料、 酵素、 その他各種の薬効物の添加につい ては、 当業者なら容易に配合、 調合できる こ と明白である。
    [0103] 本発明の シ リ 力基剤は、 これまでの説明から明らかなよ う に、 任意の研磨性を有する透明練歯磨の製造に於て最もその 効果を発揮する ものである。
    [0104] 一般の透明歯磨 も ちろんのこ と 、 歯牙に付着したャニ琅 り 用から、 子供用の歯磨まで添加し、 使用 し う る こ と は勿論
    [0105] *ίめ る 。
    [0106] 以下に本発明の実施例を挙げ、 更に説明する力；、 本発明は これら実施例に限定される もので ない。
    [0107] 尚、 実施例中％は特にこ とわらない り 重量％を示す。 実施例 1.
    [0108] 5 5 0 籠 の タ - ビ ン翼を有する視拌機を設けた 2 0 0 容 の邪魔板付き反応槽に Si 02 〗 0 0 9/ 、 NaC-e 2 0 9/^ を舍 有するケ ィ 酸ナ ト リ ウ ム （ Na20 · δ.1 SiO: ) 水溶液 1 0 5 を 投入し、 反応温度 8 7 に保持し、 1 0 %硫酸を 0.3 8 /ま の流速で 1 0 2 分間 添加し、 反応系 pHを 1 0.0 と した。 次レ、 で 1 0 %硫酸を 0.8 S ,νϋη の流速で添加し、 1 6 分後に反応 系 ： Η 力； 7.1 に な っ た と き 酸の添加を止め、 そのま 1 5 分 間熟成した。
    [0109] 萨過、 水洗を繰 り返し、 1 1 0て に保った乾燥機中で乾燥後、 微粉砕した。
    [0110] こ う して得られた微粉末シ リ 力は、 B E T法比表面積 S 1 rri/9、 C T A B法比表面積 1 5 rri/φ、 B E T 法と C T A B法 の比表面積の差力 1 6 を示し、 硏磨減量 2 0.6 W、 屁折率 ί.4 S 7、 最低潟度 0.26で適切な研磨力と透明歯磨用基剤と し て経時安定性の少ない優れた特性を有する。
    [0111] 実施例 2.
    [0112] 8 5 0 丽 の タ - ピ ン翼を有する ¾拌機を設けた 5 Wの邪 魔板付き反応槽に Si02 9 5 ？/^、 NaC^ 1 0 9 / を 含有する ケィ 酸ナ ト リ ゥ ム C Naz0 · 5.2 Si02 )水溶液 S 0 7 0 を投入し、 反応温度 9 5。C に保持し、 1 0 %硫酸を 1 1.2 Z の流速で
    [0113] 9 S 分間 添加し、 反応系： ρΗを 1 0 0 と した。 次いで 1 0 %硫 酸を 2 5.5 /m の流速で添加し、 1 6 分後に反応系： pHが 6.7 にな ったと き酸の添加を止め、 そのま 5 0 分間熟成した。
    [0114] 萨過、 水洗を繰 り 返し、 1 1 0 °Cに侏った乾燥璣中で乾燥後、 蝉粉砕した。 .
    [0115] こ う して得られた微粉末シ リ 力は、 B E T法比表面積 5 2 ni/9 、 G T A B法比表面積 1 9 ni/9 、 B E T法と G T A B法 の比表面積の差が 5 S nt/ を示し、 研磨減量 、 屈折率
    [0116] 1.4 4 1 、 最低蘅度 0.0 8 で 適切な研磨性を示し、 且つ優れた 透明性と経時変化の少ない特性を有する ものである。
    [0117] 実施例 5.
    [0118] 1 5 0 の タ - ビ ン翼を有する攪拌機を設けた 2 0 ^容 の邪磨板付き反応容器に Si 02 1 1 0 / 、 a2 S 04 5 5 Z を含有するケィ 酸ナ ト リ ゥ ム （ Na20 * 2.8 Si02 ) 水溶液 1 0 を入れ、 反応温度 7 5 に保持し、 1 1 %硫酸を 6 5 9/mnの 流速で 0 4 分間添加し、 反.応系 ！ )H を 〗 0.0 と した。
    [0119] 次いで 1 1 %硫酸を 1 2 5 Λ の流速で添加し、 1 1 分後 に反応系 PH力； 7. ό に な っ た と き 酸の添加を止め、 そのま ^ 1 5 分間 熟成した。
    [0120] i戸過、 水洗を繰 り 返し、 1 1 0 °cに保 っ た乾燥機中で乾燥後、 微粉砕した。
    [0121] こ う して得られた微粉末シ リ カは、 B E T 法比表面積 5 8 ni/9、 C T A B法比表面積 2 5 ni/9 、 B E T 法と C T A B法 の比表面 Wの差力； 1 5 rri/9 を示し、 研磨減量 1 7.8 W、屈折率 1.4 3 6 , 最低 度 0.1 6 で 透明歯磨用基剤と して適切な研磨 性と透明性を有し、 且つ、 経時変化の少ない特性を有する。 実施例 4.
    [0122] 実施例 5 で使用 した反応容器に S i 02 1 0 0 9/ 、 KC^ 1 5 ノ を含有する ゲ イ 酸力 リ ゥ ム （Κ20 · 5.0 Si02 ) 7_R溶液 1 0 を入れ、 反応温度 . 8 0 に 保持し、 8 %塩酸を 7 8 9/ の流 速で 4 6 分聞添加し、 反応系 ： H を 1 0.0 と した。 次いで 8 % 塩酸を 1 5 5 m の 流速で添加し、 9 分後に反応系 ： Hが 0.8 にな っ たと き' の添加を止め、 そのま ^ 2 0 分間熟成した。
    [0123] 护過、 水洗を繰り 返し、 1 1 0 に侏っ た乾燥機中で乾燥後、 微粉砕した。
    [0124] こ う して得られた微粉末シ リ 力 は、 B E T 法比表面積 5 5 rri/9 、 C T A B 法比表面積 4 2 ηΐ/9、 ： B E T 法と C T A B 法
    [0125] ΟΜΡΙ
    [0126] 7 、：" の比表面積の差が 1 1 ri/9 を示し、 研磨減量 6. 8 W、 屈折率 1. 4 4 2 、 最低衝度 0. 0 4 で 透明歯磨用基剤と してほどよい研 磨性と優れた透明性を示し、 且つ経時安定性の良好な特性を 有する。
    [0127] 以上の実施例からも本発明品が、 殊に透明歯磨用の基剤と して優れた特性を有しているこ とが判るカ 、 かな り高い硏磨 性を有する シ リ 力基剤において透明性と長期間の保存安定性 の更に優れた透明歯磨を所望する場合には、 種々の湿潤剤の 中でも 、 ソ ル ビ ト - ノレ 、 ホ。 リ エチ レ ングリ コ - ルカ》ら選択さ れた湿潤剤及び水を使用する こ とによ り 、 その目的を達成出 来る。
    [0128] 以下、 更に詳し く 説明するために実施例 1 で得られたシ リ 力基剤 S D % を含有する グ リ セ リ ン水溶液、 ソ ノレ ビ ト - ノレ水 溶液、 ポ リ エ チ レ ング リ コ - ル 4 0 0水溶液で 測定した屈折率 と濁度の長期間の経時変化を第 2 表に掲げる。 第 2表
    [0129]
    [0130] 5 0 °C において 1 0 0 日間保存後の濁度 第 2表に 示す通り 、 湿潤剤がグ リ セ リ ン水溶液の場合
    [0131] 1¾ 期間の保存中に透明性を僅かに喪失する欠点を有する力；、 ソ ル ビ ト - ル水溶液、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ - 4 0 0 水溶液の 場合、 長期間の保存においても透明性が全 く 変化しない。
    [0132] こ のこ と力 >ら、 本発明の シ リ カ基剤と ソ /レ ビ ト - /レ、 ポ リ エ チ レ ンダ リ コ - ルから選択された湿潤剤及び水からなる透 明歯磨は、 透明性と 長期間の保存安定性に特に優れている こ とが判る。
    [0133] 参照例 1.
    [0134] 現在市販されている透明歯磨についてその屈折率と濁度を 示せば、 第 5 表の通 り である。 第 5 表
    [0135] 如上の説明及び上表から明らかな通 り 、 本発明 シ リ 力基剤 を使用 した透明歯磨は、 市販透明歯磨に比べて、 その透明度 に於て、 格段に優れている こ とが判る。
    权利要求:
    Claims 請 求 の 範 囲
    1. B E T法による比表面積が 5〜6 0 ( 無水物 ） 、 C T A B法による比表面積が 5 〜 6 0 ηί/9 ( 無水物 ） であ り 、 且つ、 Β Ε Τ法による比表面積と C T A B法による比表面積の差が 4 0 ( 無水物 ） 以下である屈折率 1.42〜1.4 5を有する歯 磨用 シ リ 力基剤。
    2. ア ル力 リ金属ゲ イ酸塩溶液を電解質物質の存在下で塩酸ま たは硫酸と反応させる工程が反応系 を 1 0.Q とするまでの シ リ 力析出工程と反応系！ )Ηを 8.0〜 5 とする 中和工程と力 > らな り 、 中和工程と シ リ 力析出工程の塩素イ オ ンまたは硫酸 イ オ ン の添加速度比が少な く と も 5 ： 5 であ り 、 且つ中和ェ 程を 5 0 分以内で行ない、 少な く と も 1 0 分以上熟成する こ とを特徴とする歯磨用 シ リ 力基剤の製造方法：.
    5. 電解質物質を予めア 力 リ 金属ゲイ酸塩溶液に含ませてな る特許請求の範囲第 2 項記載の方法。
    ア ル カ リ 金属ゲイ酸塩溶液の si0 i20 モ ル比 （ 但し Xはァ ルカ リ 金属 ） が 2 〜 4 である特許請求の範囲第 2 項記載の方 iS o
    5. 塩酸または硫 ¾添加前のア ル 力 リ 金属ゲ イ酸氇溶液の SiOz 濃度が 5 〜 1 5 重量％である特許請求の範囲第 2 項記載の方 法
    6. 電解質物質がア ル力 リ 金属の鉱酸塩である特許請求の範囲 第 2 項記載の方法。
    7. 電解質物質の量が Si02に対して 1 0〜6 0重量％でぁる特許 2 1 請求の範囲第 2 項記載の方法。
    8. ·塩酸または硫酸濃度が 5 〜 1 5 重量％である特許請求の範 囲第 2 項記載の方法。
    9. シ リ 力析出工程における反応温度力； 6 0〜 1 0 0 で ある特 許請求の範囲第 2 項記載の方法。 0. シ リ 力析出工程における塩酸または硫酸の添加時間力； 4 0 分〜 4 時間である特許請求の範囲第 2 項記載の方法。
    OMPI
    WIPO
    类似技术:
    公开号 | 公开日 | 专利标题
    ES2672307T3|2018-06-13|Dispersión de dióxido de silicio que comprende un poliol
    US3689637A|1972-09-05|Dentifrice composition
    EP1596817B1|2017-03-15|Precipitated silica product with low surface area, dentifrices containing same, and processes
    AU612406B2|1991-07-11|Silicas
    CN100473606C|2009-04-01|无定形二氧化硅、其制备方法和应用
    TWI230074B|2005-04-01|High cleaning dentifrice
    US5658553A|1997-08-19|Dentifrice compositions
    KR910009572B1|1991-11-21|침강 실리카의 제조 방법
    JP2799773B2|1998-09-21|沈降シリカ
    TWI443066B|2014-07-01|連續製造二氧化矽之方法和由其製備而得之二氧化矽產物
    US5605677A|1997-02-25|Remineralizing dental care preparation
    CN100340225C|2007-10-03|沉淀碳酸钙
    US4871396A|1989-10-03|Granular composition and dentifrice containing the same
    CN1107494C|2003-05-07|洁牙剂组合物
    ES2284664T3|2007-11-16|Composiciones abrasivas y procedimientos para preparar las mismas.
    JP4787879B2|2011-10-05|酸化アルミニウム分散液
    EP0236070B1|1992-03-04|Silicas
    EP0174840B1|1990-08-29|Toothpaste compositions
    KR890002020B1|1989-06-08|피로포스페이트로 코팅된 탄산칼슘 치아 연마제의 제조방법
    EP0170871B1|1992-04-08|Zahnpasta
    EP0808880B1|2003-01-08|Silanisierte Kieselsäure
    CA2588387C|2011-12-20|High-cleaning silica materials and dentifrice containing such
    TWI352601B|2011-11-21|High-cleaning/low abrasive silica materials and de
    AU2014363407B2|2017-01-19|Abrasive cleaning composition
    AU600241B2|1990-08-09|Precipitated silicas
    同族专利:
    公开号 | 公开日
    CA1228715A|1987-11-03|
    CA1228715A1||
    JPS59163306A|1984-09-14|
    GB2146318A|1985-04-17|
    DE3490099C3|1994-02-24|
    EP0139754A4|1988-08-23|
    EP0139754B1|1991-05-08|
    DE3490099T|1985-04-18|
    EP0139754A1|1985-05-08|
    GB8427657D0|1984-12-05|
    US4581217A|1986-04-08|
    GB2146318B|1986-10-15|
    JPS6217969B2|1987-04-21|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    法律状态:
    1984-09-13| AL| Designated countries for regional patents|Designated state(s): FR |
    1984-09-13| AK| Designated states|Designated state(s): DE GB US |
    1984-10-24| WWE| Wipo information: entry into national phase|Ref document number: 1984900890 Country of ref document: EP |
    1985-04-18| WWE| Wipo information: entry into national phase|Ref document number: 3490099 Country of ref document: DE |
    1985-04-18| RET| De translation (de og part 6b)|Ref document number: 3490099 Country of ref document: DE Date of ref document: 19850418 |
    1985-05-08| WWP| Wipo information: published in national office|Ref document number: 1984900890 Country of ref document: EP |
    1991-05-08| WWG| Wipo information: grant in national office|Ref document number: 1984900890 Country of ref document: EP |
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
    JP58038806A|JPS6217969B2|1983-03-08|1983-03-08||GB08427657A| GB2146318B|1983-03-08|1984-02-28|Silica base for dentrifice and process for its preparation|
    [返回顶部]